フェロシリコンとそのシリコン合金の製錬では、フラックス下でのアーク操作が使用されます。したがって、電極は製錬生成物によって形成される「るつぼ」に挿入され、エネルギーのほとんどがここで放出されます。
炉内の溶解プロセスは、主に電極の隣の「るつぼ」内で行われます。 「るつぼ」の上部には、冷たい材料で形成された「るつぼ」の蓋があります。るつぼの壁とるつぼの蓋は継続的に溶解され、装入物の重力の影響で、上部の新しい材料に置き換わります。したがって、「るつぼ」は電極の下にある固化した容器として考えることはできず、電極の下部に急速に形成される高温の反応ゾーンとして考えることができます。炉内の高温では、3 つの「るつぼ」の底部が 1 つの全体に結合され、単一装入の「るつぼ」が形成されます。この「るつぼ」の下部はガス空洞です。電極と融液（るつぼの底）との距離は約300mmです。
炉が回転すると、電極が耕すように電荷に作用し、反応領域が倍増し、炉の排出がスムーズになり、過剰な還元剤の量が少なくなり、低品位の還元剤を使用できるようになります。電極が深く挿入され、炉底が十分に加熱されるため、スラグの排出がスムーズになり、炭化物が徹底的に破壊され、炉の状態が改善され、炉内壁の寿命が長くなります。