99％20nm窒化シリコン粒子の説明
窒化シリコンセラミックは耐久性があり、熱をよく走行し、加熱または冷却したときに形状をあまり変えません。また、崩壊せずに高温や圧力に耐えることもできます。これは、セラミックにとって珍しいことです。その軽さのため、窒化シリコンはしばしば人間の骨補綴物を作るために使用されます。
シリカと比較して、アモルファス状態の窒化物は電子と穴のトラップの濃度が高く（約{10-19 cm -3）、これらのトラップは比較的深い（約1.5 eV）。これにより、窒化シリコンを効率的なメモリデバイスとして使用できます。そこに注入された電子と穴は、トラップで捕獲され、85度の温度で約10年間留まることができます。
さらに、窒化シリコンは酸化物（3,9）と比較して高誘電率（7）を持っているため、多くのデバイスで絶縁体として使用されます。
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99％20nmの窒化シリコン粒子の仕様
| アイテム | 純度 | アクセスポイント | SSA | 色 | 結晶層 | 形態 | バルク材料の密度 |
| S3N4 | >99.9% | 20ナノメートル | 93m2/g. | 白 | アモルファス | 球状 | 0。09 g/cm3 |
| S3N4 | >99.9% | 800以上のnm | 65m2/g. | グレーホワイト | アルファ | 顔に中心がある立方 | 0。23 g/cm3 |
| S3N4 | >99.9% | 800以上のnm | 49m2/g. | 薄緑色の灰色 | アルファ | 顔に中心がある立方 | 0。69g/cm3 |
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